Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения

За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого — систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP. Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников.Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников IC

Автор	Е .В. Берлин,В. Ю. Григорьев,Л. А. Сейдман
Год выпуска	2018
Издатель	Техносфера
ISBN	978-5-94836-519-0
Цена	759 руб.